우리 학부 신영수 교수 연구실(DT Lab)의 박사과정생 장세용(Shilong Zhang) 학생이 2025년 9월 22일부터 26일까지 미국 캘리포니아주 몬터레이에서 개최된 SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2025에서 Photronics 최우수 학생 발표상(1위)을 수상했다.
SPIE Photomask Technology + EUV Lithography는 반도체 산업 분야의 전문가와 연구자들이 모여 최신 포토리소그래피 마스크 기술을 발표하고 논의하는 세계적인 국제 학술대회다. Photronics, Inc.의 후원으로 제정된 Photronics Best Student Presentation Award는 포토마스크 및 EUV 리소그래피 관련 연구를 수행하는 학생들의 연구를 독려하기 위해 마련된 상으로, 1위 수상자에게는 미화 1,500달러의 상금이 수여된다.
장세용 학생의 수상 논문인 ‘Integrated Curvilinear OPC and SRAF Optimization through Reinforcement Learning’은 강화학습 기반 방법을 통해 곡선형 서브해상도 보조 패턴(SRAF)과 곡선형 주 패턴을 동시에 최적화하는 기법을 제안하였다.
기존의 고정 SRAF를 사용하는 곡선형 OPC 방식 대비 최대 정점 위치 오차(Vertex Placement Error, VPE)를 7.6%, 최대 공정 변동 폭(Process Variation Band, PVB)을 23.0% 감소시켜, 패턴 충실도와 공정 윈도우 안정성 측면에서 모두 유의미한 성능 향상을 입증해 우수성을 인정받았다.
시상 분야 및 수상 정보에 관한 자세한 내용은 아래 링크에서 확인할 수 있다.
https://spie.org/conferences-and-exhibitions/photomask-technology-and-extreme-ultraviolet-lithography/program/conferences/awards
