연구

RESEARCH

연구성과

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연구성과

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EE학부, 박선의 박사과정(최재혁교수랩), 삼성전자 산학협력 우수논문상 중 최우수상 수상

[연구팀사진, 박선의, 신유환, 이정현, 최재혁 교수, 왼쪽부터]
 

우리 학부 최재혁 교수 연구팀 (연구실명: ICSL)에서 회로의 집적도를 높이는 데 용이한 링 오실레이터를 기반으로, 8 GHz 이상의 높은 주파수에서 100 fs 이하의 매우 뛰어난 지터 성능을 갖는 클락 생성기를 개발하였습니다

본래 링 오실레이터 기반의 클락 생성기는 LC 오실레이터 기반의 클락 생성기에 비해 그 노이즈 성능이 좋지 않아, injection-locked clock multiplier (ILCM)과 같이 매우 뛰어난 노이즈 성능을 달성할 수 있는 구조와 함께 많이 사용됩니다.

하지만이 ILCM 구조는 주파수 체배수가 낮아 높은 출력 주파수를 갖는 신호를 생성할 수 없다는 단점이 있었습니다

이를 파워게이팅 인젝션 기법을 이용하여 해결하여, 8 GHz 이상의 출력 주파수와 68 이상의 주파수 체배수를 갖는 ILCM 구조 (PG-ILCM)를 개발함으로써대부분 5 GHz 이하의 출력 주파수와 20 이하의 주파수 체배수를 갖는 기존 ILCM 구조와 비교하여 그 출력 주파수와 주파수 체배수를 크게 증가시켰습니다.

 

[연구성과도본 연구에서 제안하는 PG-ILCM 동작 컨셉도]

 

해당 연구는 그 우수성을 입증받아 삼성전자 산학협력 우수논문상중 최우수상을 수상하였습니다

또한, 2022년 2월에는 ISSCC 2022 학회에서 발표된 바 있습니다. 

 

[수상식 사진, 오른쪽 박선의학생]