
우리 학부 신영수 교수 연구실(DT Lab)의 박사과정생 장세용(Shilong Zhang) 학생이 2026 SPIE Nick Cobb Memorial Scholarship 수혜자로 선정되어 $10,000의 장학금을 수여받았다.
SPIE Nick Cobb Memorial Scholarship은 첨단 리소그래피 또는 관련 분야를 연구하는 우수한 대학원생에게 수여되는 장학금으로, Siemens EDA와 SPIE가 공동으로 후원한다. Nick Cobb은 Mentor Graphics(현 Siemens EDA)의 수석 엔지니어로서, IC 제조를 위한 광학 및 공정 근접 보정(OPC) 기술에 선구적인 기여를 한 인물이다.
장세용 학생은 2025년 SPIE Photomask Technology + EUV Lithography에서 Photronics 최우수 학생 발표상(1위)을 수상한 바 있으며, 2024 International SoC Design Conference에서 ISE President Best Paper Award를 수상하는 등 우수한 연구 성과를 인정받아왔다. 이번 장학금 수상과 함께 2026년 2월 22일부터 26일까지 미국 캘리포니아주 산호세에서 개최되는 SPIE Advanced Lithography + Patterning 학회에서 시상식이 진행되었으며, 장세용 학생은 동 학회에서 “Etch proximity correction for curvilinear layout: Curve sampling with ML etch bias model”이라는 제목의 논문을 발표하였다.
시상 분야 및 수상 정보에 관한 자세한 내용은 아래 링크에서 확인할 수 있다.
https://spie.org/news/2026-spie-nick-cobb-memorial-scholarship-recipient-announced






