[ 세미나 개최 안내 ]

· 제목 : 기하위상홀로그램 광소자의 원리 및 XR 광학계로의 응용

· 일시 : 8월 7일 수요일, 오후 4시

· 초록 : 동일한 박막 두께 조건에서 flat optics 조건으로 다양한 광학적 임의 파면 제어가 용이한 기하위상홀로그램 (Geometric Phase Hologram : GPH) 광소자에 대한 연구가 최근 활발히 모색되고 있다.

이는 half retarder 조건의 복굴절 매질로 광축의 공간적 패턴 분포를 형성할 경우, 기하하적 광축 패턴 정보를 따라서 위치별 위상 지연 정도가 선형적 관계를 가지면서 패터닝이 가능하기 때문으로, plasmonic 또는 dielectric meta-surface 기반의 flat optics 대비 대면적 박막 공정이 고신뢰성으로 용이하며 색수차 의존성 또한 월등히 낮아, 전가시광 대역에 대한 광파 제어가 요구되는 디스플레이 및 이미징 분야에 응용성이 적극 모색되고 있다.

본 발표에서는 일반 GPH 소자의 파면 제어 원리와 함께 경북대학교 본 연구실에서 수행 중인 GPH lens 소자 사례 및 관련 분야에서 해결해야할 이슈 사항을 소개하고, 특히 초경량/초박형 폼팩터가 요구되는 XR 광학계에 어떤 활용성이 있는지에 대해 소개한다.

일반 GPH 소자에서는 입사 원편광 조건에 따라 conjugation 위상 관계를 가지는 두 가지 조건의 파면 제어 조건이 가능함을 설명하고, 적층된 소자 구조에서 switchable optics 로써의 유용성에 대해 소개한다. 일반 GPH 소자와 달리 quarter retarder 조건으로 복굴절 조건을 형성 시에는 파면 제어 세트를 다중화함에 있어 어떤 유용성이 있을 지에 대해서도 최근 연구 성과를 소개하고자 한다.