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(4월 12일) High-Performance Dielectric Thin Films and Deposition Processes for Low-Voltage Thin-Film Transistor Application

제목

High-Performance Dielectric Thin Films and Deposition Processes for Low-Voltage Thin-Film Transistor Application

날짜

2016년 4월 12일 (화요일) 오후 4시

연사

Prof. Myung-Han Yoon (GIST)

장소

KAIST KI 빌딩 Lecture Room(B401호)

개요:

고성능, 저전압, 대면적, 유연성, 저비용 소자 등 다양한 목적에  맞는  반도체 소재에 개발은 최근까지 활발히 이루어져 온 반면, 도체, 반도체박막과 함께 박막 트랜지스터(thin-film transistors: TFTs) 제작에 필수적 구성 요소인 절연체/유전체 박막에 관한 연구는 상대적으로 미흡한 편이었다. 본 세미나에서는, 높은 절연성이 담보되면서도 높은 단위 면적당 정전용량을 갖는 초박막 절연막 소재 및 박막형성 공정에 관한 연구결과를 발표하고자 한다. 먼저, 졸젤 금속산화물 절연체 초박막의 광학적 활성화, 대면적 도포 및 패터닝 기술을 소개하고, 가교된 고분자절연층 박막의 대면적 형성 기술 및 증착형 고분자 절연체 형성법 및 유연성 소자 응용 연구결과를 발표한다. 마지막으로 현재까지 보고된 적이 없는 신소재 기반 초박막 고성능 절연소재를 소개하고, 파괴전압후 절연능력 자기복원 및 광패터닝 등에 관한 최신 연구결과를 간단히 소개한다.